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設(shè)備名稱：電子束曝光機 晶圓級制造
設(shè)備用途：電子束曝光是利用加速的聚焦電子束在抗蝕劑上曝光，顯影后便可在抗蝕劑上得到相對應(yīng)的微納結(jié)構(gòu)；用于各種高精度圖形結(jié)構(gòu)的制備。
主要技術(shù)指標(biāo)：
加速電壓：50kV
電子束電流：10pA~100nA
可加工尺寸：2inch、3inch、4inch、5inch和≥1cm不規(guī)則片
分辨率：10nm
套刻精度：50nm
